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品牌名称：北京京迈研材料科技有限公司
科研实验专用钨靶材W靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
钨（W）经过冶炼后的是银白色有光泽的金属，熔点极高，蒸气压很低，蒸发速度也较小，化学性质也比较稳定硬度高，常温下不受空气侵蚀；约50%用于优质钢的冶炼，约35%用于生产硬质钢，约10%用于制钨丝，约5%其他用于其他用途。钨可以制造枪械、火箭推进器的喷嘴、穿甲弹、切削金属的刀片、钻头、超硬模具、拉丝模等等，钨的用途十分广泛，涉及矿山、冶金、机械、建筑、交通、电子、化工、轻工、纺织、、航天、科技、各个工业领域。
产品参数
中文名称：钨 化学式 W
沸点 5555℃ 熔点 3422℃
密度 19.25g/cm3
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
北京京迈研材料科技有限公司
进入公司首页北京京迈研材料科技有限公司创建于2015年,是国内有色金属行业综合性研究开发公司。 现有员工100余人。我公司光学镀膜材料中心以国内领先的技术，多年来一直专业从事光学镀膜材料及溅射靶材的研发与生产。靶材包括各种氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、复合物、金属及合金等，也可根据您的要求量身定做。通过严格控制生产、并持续改进、稳步发展，致力为客户提供最优质的产品。 公司现有靶材热压炉；真空蒸馏装置，电解槽，单晶炉，区熔装置，CVD（化学气象沉积）装置，PVD（物理气象沉积）装置，移动式加...
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联系人：刘东(先生) 销售
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